ISSM - INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING

半導体生産技術国際シンポジウム

第1回目を1992年に日本で開催して以来、日米交互で開催されてきたISSMは、今年日本でその第17回目を迎えます。 ISSMは「ノウハウをサイエンスに」を目指して、半導体生産技術に関わる技術者が広く一堂に会し、グローバリズムに立脚して技術の高度化への絶えざる挑戦を試み、開発した技術を世に問い議論を深めることでより優れた成果を得ることを基本スタンスとして、半導体生産技術に関する真摯な議論を継続してきました。

300mmウエハや0.1μm以降の微細加工時代を迎えた現在、半導体の生産技術は更に変化を続け、共通の課題に対して半導体産業界が協調して取り組む姿勢に大きく変わりつつあります。 ISSM2008では、今年も業界の著名なリーダーによるキーノート・スピーチや、従来のエリアに縛られないハイライト・テーマの設定、また新たなテュートリアル・セッションの開催やネットワーキング・セッションの併催など、多彩な内容を企画しております。技術者相互の交流と啓発、切磋琢磨を通じて、半導体産業の永続的な発展と繁栄に資することを目指そうとするISSM2008への多くの方々の論文投稿とご参加をお待ちしております。

ISSM2008の論文エリア

論文は以下の要素別技術エリアで募集します。
各エリアの詳細は下記URLをご覧ください。
http://www.semiconportal.com/issm/cfp.html

工場設計および搬送自動化（FD）
製造ラインの戦略及び運営管理（MS）
生産管理および制御（MC）
プロセス制御・モニタリング（PC）
プロセスおよび材料の最適化（PO）
欠陥低減・歩留まり向上（YE）
汚染防止及びウルトラクリーンテクノロジー（UC）
環境・安全（ES）
製造装置・測定装置（PE）
ファイナルマニュファクチャリング（FM）
生産性設計（DM）

ハイライト・テーマ

現在注目の技術に関しては、採択論文決定後にハイライト・テーマとしてそれらをくくり、エリアを横断的にカバーする独立セッションとしてプログラムを構成します。以下のようなテーマに関する論文を特に期待致します。
各テーマの詳細は下記URLをご覧ください。
http://www.semiconportal.com/issm/cfp.html